有很多種設(shè)備可以處理一些工廠排放出來(lái)的廢氣，光氧化設(shè)備就是其中一種專門處理各種廢氣的一種設(shè)備，可以使用到很多方法來(lái)完成設(shè)備，下面就是其分解過(guò)程的一些詳細(xì)介紹。
　　1、光降解通常是指有機(jī)物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物*終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機(jī)物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導(dǎo)一系列有機(jī)污染的反應(yīng)。間接光降解對(duì)環(huán)境中難生物降解的有機(jī)污染物更為重要。
　　2、光氧化設(shè)備可以利用光化學(xué)反應(yīng)降解污染物的途徑，包括無(wú)催化劑和有催化劑參與的光化學(xué)氧化過(guò)程。前者多采用氧和過(guò)氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見(jiàn)的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過(guò)一定的反應(yīng)產(chǎn)生·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中較常見(jiàn)的是在污染體系中投加一定量的光敏半導(dǎo)體材料，同時(shí)光氧化設(shè)備結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì)，吸附在半導(dǎo)體上的溶解氧、水分子等與電子空穴作用，產(chǎn)生HO等氧化性的自由基，再通過(guò)與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。
　　通過(guò)對(duì)以上講述的光氧化設(shè)備的分解過(guò)程，知道了它是如何分解廢氣的，對(duì)于以后處理廢氣方面是能夠帶來(lái)更好的作用的。